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Quantum X无掩膜光刻系统

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Nanoscribe的Quantum X是全球shou创双光子灰度无掩模光刻系统，适用于制造微光学衍射以及折射元件。

Quantum X提供了完全的设计自由度、高速的打印效率、以及增材制造复杂结构超光滑表面所需的高精度。

技术参数

为工业应用而生

  • 折射微光学元件-单个透镜或透镜阵列
  • 多层衍射光学元件 – 多达256个分立的或准连续的分层
  • 2.5维微光学快速手板成型制作
  • 批量制作微光学元件制作所需的聚合物母版
  • 小批量生产
  • 整片晶圆制造
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未分类, 新闻中心

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