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Quantum X无掩膜光刻系统

Nanoscribe的Quantum X是全球shou创双光子灰度无掩模光刻系统,适用于制造微光学衍射以及折射元件。 Quantum X提供了完全的设计自由度、高速的打印效率、以及增材制造复杂结构超光滑表面所需的高精度...
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